全球的光刻机巨头们早就窥视我国市场多年，以前我们的半导体芯片技术落后，就算有先进的光刻机也制造不出高端芯片，因为芯片制程工艺同样重要，是工程师长期的经验摸索积累出来的。

  今天，我们的技术上去了，中芯国际14nm制程工艺也很成熟了，但是美国却给我们来个断供，禁止向我国出口14nm制程以下技术和设备。

  这是西方对我们的又一次围追堵截，然而更可怕的是他们不给我们自力更生的机会，因为荷兰光刻机巨头ASML也在围堵我们之列，正在想办法破坏我们光刻机自主研发，而且很早就在布局围堵我们。

  我们常常听说苹果、诺基亚、三星、爱立信、华为等等互相有专利官司，主要是因为某一方在自己的产品上使用了另一方的专利，导致官司不断，不是赔钱就是禁售，结果都很惨烈。

  同理，如果ASML在我国申请大量的光刻机专利，而我国的自主国产光刻机能否绕过去？以我看，肯定绕不过去。作为全世界光刻机巨头，EUV光刻机是100%的垄断，无另外的国家能制造出来，因为这是全球40多个发达国家的技术结晶，如果还是传统的研发方向，必须掏买路钱，交给ASML专利费。

  ASML早就在中国布局，在深圳设立了研发中心，而且申请了不少专利。有网友在国家知识产权局的网站上查了一遍，不查不知道，一查吓一跳，光ASML申请的专利就达到了212页，专利申请数量有2113项。

  当然，申请的专利是可以让个人会使用的，是公开的，只要掏钱，能得到授权就行。但大多数技术是不会申请专利的，属于绝密，只有参加研发的一些重要人员才知道，而这些无主的技术才是最大的壁垒。

  因此，我们大家可以看出，ASML在中国市场早就布局了专利池和护城河，想绕过去绝对做不到，想生产自己的光刻机也得ASM授权，完全是我们中国光刻机研发企业的紧箍咒。

  当然，我们的光刻机制造企业也有大量的专利，比如上海微电子据说有3200项专利，但是作为后来者，有可能是在交叉授权时存在成色不足的问题，对ASML没有多大制约。

  还有镜头技术我们也没有完全解决，德国的卡尔蔡司镜头是ASML公司EUV光刻机的生命线，其拥有的光学专利比ASML还多，更是难以逾越的高墙。

  据ASML公布的2021年第一季度财务报表显示，一季度ASML共向我国大陆出口11台光刻机，至此中国大陆慢慢的变成了ASML的全球第三大市场，占全球总销量的15%，而韩国是44%，台湾省是43%。看起来还不错，但卖给我国的都不是EUV光刻机，甚至DUV都不多，不过这也能预见的，美国绝不会向咱们提供EUV。

  今年3月，ASML同中芯国际签订了一份12亿美元采购订单，将向中芯国际提供光刻机，不过大概率还是落后制程光刻机，比如KrF光刻机（光源波长为248nm，DUV波长为193nm,EUV波长为13.4nmnm,）等，根本不是EUV。

  但是能确定的是，ASML将会大量地对我国出货低端光刻机，其目的不但是占领我国的市场那么简单，我认为是倾销，目的是打击我们的自主光刻机。现在好不容易上海微电子将来要推出28nm制裁光刻机（目前是90nm），但是如果面对ASML的大量低价出货，我们的自研企业将无法获取利润。

  最恨的是，台积电也很配合，要投资187亿人民币扩建南京28nm生产线nm生产线nm光刻机将来卖给谁？

  这种做法不但毁掉了我们的光刻机市场，也用低端制程芯片打压我们的国产芯片，这简直是一箭双雕，何其毒也。

  面对ASML的专利护城河，我们一定要想办法攻克，不能在掏授权费的同时还需要面对他们的光刻机和芯片倾销，这样损失太大，我们没时间消耗了，所以，我们大家可以以反垄断为手段，强制让这些专利无效。

  还有对于EUV光刻机，我们别奢望美国能解禁，这是压制、剥削和围堵我们的最好武器，美国不会白给我们。虽然，我们缺芯片，需要更大的产能，但是我们也不能让西方毫无节制地破坏我们的自主产业，所以我们还得自主研发，争取突围成功，搞出属于我们的光刻机和芯片，打破西方技术讹诈。

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